高真空装置(真空チャンバー)【研究支援分野・福伸工業】

オリジナル製品紹介

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高真空装置(真空チャンバー)

研究支援分野

実験設備から生産設備までの用途に応じた真空チャンバーを設計・製造いたします。

用途

  • マルチターゲット製造装置
  • イオン源製造装置
  • 薄膜製造装置

特徴

  • 仕様によりガス放出の少ない、クリーンな真空が得られます。
  • 実験設備から生産設備までの用途に応じた真空チャンバーを設計・製造いたします。

仕様

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真空度低真空〜高真空10-5Pa
容量数10リットル〜数100リットルまで
材質SUS304/SUS316L
表面処理バフ仕上げ処理、電解研磨処理
必要に応じてシースヒーターによるベーキングを行います。

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